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发布于:2025-12-10

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  快科技11月2日消息ღ✿◈✿✿,美国半导体初创企业Substrate近期抛出重磅消息ღ✿◈✿✿,宣称已研发出基于X光的新型曝光技术ღ✿◈✿✿,其解析度能与荷兰ASML最先进的EUV光刻机匹敌ღ✿◈✿✿,而后者单台造价就超过4亿美元ღ✿◈✿✿。 Substra

  快科技11月1日消息ღ✿◈✿✿,前几天网络曝出台积电21年资深高管罗唯仁要跳槽去Intel公司的消息ღ✿◈✿✿,虽然他已经于7月份从台积电退休ღ✿◈✿✿,但此事依然引发业界关注ღ✿◈✿✿。 究其原因ღ✿◈✿✿,就是罗唯仁虽然已经是75岁高龄ღ✿◈✿✿,但

  快科技9月29日消息ღ✿◈✿✿,半导体工艺越先进ღ✿◈✿✿,对光刻机的需求就越高ღ✿◈✿✿,5nm以下量产更少不了EUV光刻机ღ✿◈✿✿,目前全球只有ASML公司能供应ღ✿◈✿✿,台积电ღ✿◈✿✿、三星ღ✿◈✿✿、Intel等公司都会向他们下降ღ✿◈✿✿。 那么这些巨头中谁拥有

  快科技9月8日消息ღ✿◈✿✿,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备ღ✿◈✿✿,同样重要的还有EUV光刻胶我睡过的七个大佬同时找上门ღ✿◈✿✿,现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了我睡过的七个大佬同时找上门ღ✿◈✿✿。 来自无锡政府网站的消息ღ✿◈✿✿,9月4日2025集成电路

  快科技7月24日消息ღ✿◈✿✿,据清华大学官网介绍澳门威斯尼斯人appღ✿◈✿✿,日前我睡过的七个大佬同时找上门ღ✿◈✿✿,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料上取得重要进展澳门威斯尼斯人appღ✿◈✿✿,开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶澳门威斯尼斯人appღ✿◈✿✿,为先进半导体制造中的关键材料提供

  快科技7月2日消息ღ✿◈✿✿,据媒体报道我睡过的七个大佬同时找上门ღ✿◈✿✿,2023年末ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机ღ✿◈✿✿,业界普遍认为ღ✿◈✿✿,High-NA EUV光刻技术将在先进芯片开发和下一代处理器的生产中发挥关键作用ღ✿◈✿✿。 不过这种情况最

  快科技6月29日消息ღ✿◈✿✿,全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机ღ✿◈✿✿,为未来十年的芯片产业做准备ღ✿◈✿✿。 Jos Benschop表示ღ✿◈✿✿,ASML及独家光学合作伙伴蔡司(Carl Zeiss)正在研究

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